中芯国际即将突破8nm技术，芯片生产不一定需要光刻机！

提到顶尖芯片制造、晶圆体代工厂以及光刻机制造厂大部分人想到的都是台积电、荷兰ASML公司等这些国际知名大公司，台积电目前已经能够独立生产5纳米制程芯片，现代社会最先进的芯片之一，而荷兰ASML公司的EUV光刻机则是世界最先进的光刻机。光刻机技术越顶尖，芯片制成就越精密，台积电之所以有这样精密的芯片，就是因为它采用了ASML公司的EUV光刻机。在世人的认知中，制造芯片必须用到光刻机，然而并非如此，中芯国际用事实证明芯片不一定需要光刻机。

中芯国际可以说是世界技术最先进、规模最大的并且跨多国经营的专业晶圆体代工厂，据了解，中芯国际此前已经掌握了90纳米、28纳米、14纳米制成芯片制造技术，并且水准极高，能够达到批量生产，虽然这与台积电的5纳米制成芯片相比，相差极大，但是中国作为一个工业起步晚的国家，自然与台积电会存在差距。不过，近日中芯国际传出随着他们的工资水平的再次提升，发明了一种不用光刻机便可以制造芯片的技术，那就是N+1工艺制程。

N+1工艺是一种高于14纳米20制成芯片20的性能制造的工艺，在缩减成本的同时还能够缩小芯片63％的面积，这也是为什么它能够用于制造8纳米制成芯片的原因。此外，不利用光刻机便可以制造出8纳米制成芯片主要还有第二代FinFET技术平台的加持，两项技术的结合，才帮助中芯国际突破了8纳米的大关。

8纳米制成芯片技术的突破，对我国自主研发工艺技术有极大的帮助，可以提升我国的实力、话语权，同时还可以获得经济加持。